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    等离子刻蚀中影响氮化硅侧壁蚀刻倾斜度的参数有哪些?

    返回列表 来源:榴莲视频APP色版 浏览: 发布日期:2019-09-18 15:41【
    文章导读:在晶圆制造领域,使用等离子刻蚀不仅可以“吃掉”上层的光刻胶,也可以“吃掉”氮化硅薄膜, 形成一定的侧壁蚀刻倾斜度。
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    等离子刻蚀工艺在半导体集成电路中,既能够刻蚀上表层的光刻胶,也能够刻蚀基层的氮化硅层,不仅如此还需要防止其对硅衬底造成刻蚀损害,从而造成器件暗电流增大,影响产品良率,为达到这诸多条件的工艺要求。等离子刻蚀工艺能够通过对真空色版榴莲下载APP设备的部分参数调整,形成一些氮化硅层的特殊形貌,即侧壁蚀刻倾斜度。
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    侧壁蚀刻倾斜度的优势在于,当具有一定程度的倾斜度时,可以有效降低金属镀膜层在阶梯覆盖时出现断裂的几率,以及改善集成电路中工艺金属线路内部断裂的问题。如下所示是氮化硅侧壁垂直和具有一定程度的倾斜度的示意图:
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    通过多次的变量测试和实验,榴莲视频APP色版可以通过真空度、等离子发生器的功率、CF4流量、O2流量、气体流量比、腔内压强以及处理时间等不同变量的研究,能够找到一个适合的氮化硅层侧壁刻蚀倾角。
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